半導体製造工程で用いられる「高純度溶剤」に関する共同研究成果を発表
ＫＨネオケム株式会社（本社：東京都中央区、代表取締役社長：髙橋理夫）は、2026年6月23日（火）～6月26日（金）に兵庫県姫路市「アクリエひめじ」で開催される「第43回国際フォトポリマーコンファレンス（ICPST-43）※1」に参加いたします。
会期最終日の6月26日（金）には、兵庫県立大学 山川進二 准教授らと半導体技術に関する共同研究成果を口頭発表いたします。
国際フォトポリマーコンファレンスは、フォトポリマー科学技術に関する研究成果および技術開発を対象とした国際会議です。第43回となるICPST-43では、「Materials & Processes for Advanced Lithography, Nanotechnology and Phototechnology」をテーマに、先端リソグラフィ、ナノテクノロジー、フォトテクノロジーに関わる国内外の研究者・技術者が一堂に会し、EUVリソグラフィ、次世代リソグラフィ、ナノインプリント、先端パッケージング、3Dプリンティング材料など、幅広い最先端テーマについて議論・発表が行われます。
＜共同研究の概要＞
2019年から極端紫外線（Extreme Ultraviolet；EUV）を用いたEUVリソグラフィ技術※2による半導体チップの量産が始まり、半導体の微細加工技術は日々進歩しております。これに伴い、半導体製造工程で使用される金属含有量が極めて少ない高純度溶剤の品質が、これまで以上に重要な役割を担うようになりました。
当社は、EUVリソグラフィ研究の最前線を担う兵庫県立大学 山川進二 准教授らと協力し、半導体製造工程に不可欠なレジスト組成物中の溶剤の効果を解明すべく共同研究を進めています。
本発表では、レジスト薄膜中に残留する微量溶剤に着目し、溶剤種や塗布後加熱条件が、薄膜中の化学組成分布や膜密度、さらにはEUVおよび低エネルギー電子線照射時の露光感度に与える影響について報告します。高純度溶剤と兵庫県立大学ニュースバル放射光施設が有する軟X線を用いた材料評価を基点に、半導体産業のさらなる発展に貢献してまいります。
※1：学会ホームページ：https://smartconf.jp/content/icpst-43
※2：波長が13.5nmの極端紫外線を用いた半導体露光技術。
【学会情報】
| 学会名 | 第43回国際フォトポリマーコンファレンス（ICPST-43) |
| 会期 | 2026年6月23日（火)～6月26日（金） |
| 会場 | 姫路市文化コンベンションセンターアクリエひめじ 〒670-0836 兵庫県姫路市神屋町143-2 （交通）JR姫路駅から徒歩約10分 https://www.himeji-ccc.jp/access.html#access |
| 発表概要 | 日時： 2026年6月26日（金） 15:15～15:35 発表番号：E2-6-2 タイトル：Effect of Residual Solvent on Exposure Sensitivity under EUV and Low-Energy Electron Irradiation in PHS-Boc Resists 場所：Room A（Medium Hall） |
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【本件についてのお問い合わせ先】
ＫＨネオケム株式会社 技術開発センター
TEL:059-331-5110